硅片在經(jīng)過切片、研磨、拋光、表面處理等不同的工序處理后，容易被吸附在表面的各種雜質(zhì)所污染，導致硅片性能變差，甚至直接影響到硅片的穩(wěn)定性和可靠性，所以硅片清洗就起到了至關重要的作用，目前硅片已經(jīng)廣泛采用硅片超聲波清洗機來清洗。

超聲波清洗技術是硅片行業(yè)主要的清洗方式，硅片超聲波清洗機一般有清洗槽、烘干系統(tǒng)、漂洗槽、噴淋系統(tǒng)、拋動系統(tǒng)等組成，也可根據(jù)不同的清洗工藝配置各種相應的清洗槽功能，適用于各種規(guī)格的單晶硅片、多晶硅太陽能硅片研磨、切割后的大批量清洗，獨特的干燥處理技術，可以保證硅片清洗后干燥處理不留任何水痕。

硅片超聲波清洗機具有清洗效果好，操作簡單，能夠有效去除硅片表面的顆粒、有機物、氧化層等污染物，而且不會破壞硅片表面特性。硅片超聲波清洗機得到了半導體行業(yè)的認可和信賴，眾多的硅片生產(chǎn)廠家都逐漸引進采用超聲波清洗技術，以便于達到更高效的清洗效果。